10 月18 日，国家知识产权局信息显示，友达光电（昆山）有限公司取得一项名为“涂布口清洁机构”的专利，授权公告号 CN 221832639 U ，申请日期为 2023 年 12 月。

专利摘要显示，本实用新型公开一种涂布口清洁机构，包含基座、第一刮除组件、第二刮除组件及吸附组件，第一/第二刮除组件、吸附组件固定设置于基座，第一刮除组件包含第一刮除块及辅助刮片，辅助刮片贴设于第一刮除块的前端；第二刮除组件包含第二刮除块，第一刮除块、辅助刮片及第二刮除块均具有与涂布口形状匹配的刮除槽；吸附组件包含相对设置的第一吸附片组及第二吸附片组，第一吸附片组与第二吸附片组形成第吸附口第吸附口与涂布口形状匹配；第一刮除块、第二刮除块与吸附组件沿第一方向依序间隔设置并与基座的顶面间呈一锐角，且第一刮除块、第二刮除块及吸附组件的倾斜方向相同。本实用新型可延长刮除块使用寿命，提升清洁效果。